Alvo de pulverização catódica rotativa de tântalo de alta pureza 4N 99,99% para revestimento a vácuo/PVD
Visão geral Descrição do produto Catálogo de produtos on-line Acetron Capacidade de fornecimento Para materiais de evap;
Informação básica
Modelo Nº. | ACETRON-Ta-4N-Rotativo |
Tipo | alvo de metal |
Forma | Rotativo |
Certificação | ISO |
Material | Tântalo |
Pureza | 99,99% |
ID mínimo | 56mm |
Máximo de | 180mm |
Comprimento | 0~4000mm |
Dimensão | Tal como pediu |
Embalagem Interna | Embale por Saco Aspirado e Enrole com Espuma PE |
Embalagem externa | Cubra com espuma e carregue na caixa de madeira compensada |
Pacote de transporte | Caixa de contraplacado |
Especificação | 99,99% Tântalo |
Marca comercial | ACETRON |
Origem | Fujian, China |
Capacidade de produção | 1000 PCS por mês |
Descrição do produto
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